關(guān)于研發(fā)機構(gòu)采購設(shè)備稅收政策的通知
時間：2010-12-20來源：中國注冊稅務(wù)師協(xié)會作者：中國注冊稅務(wù)師協(xié)會閱讀次數(shù)：
各省、自治區(qū)、直轄市、計劃單列市財政廳(局)、國家稅務(wù)局，新疆生產(chǎn)建設(shè)兵團財務(wù)局，海關(guān)總署廣東分署、各直屬海關(guān)：
為了鼓勵科學研究和技術(shù)開發(fā)，促進科技進步，經(jīng)國務(wù)院批準，對外資研發(fā)中心進口科技開發(fā)用品免征進口稅收，對內(nèi)外資研發(fā)機構(gòu)采購國產(chǎn)設(shè)備全額退還增值稅�，F(xiàn)將有關(guān)事項具體明確如下：
一、外資研發(fā)中心適用《科技開發(fā)用品免征進口稅收暫行規(guī)定》(財政部、海關(guān)總署、國家稅務(wù)總局令第44號)免征進口稅收，根據(jù)其設(shè)立時間，應(yīng)分別滿足下列條件：
(一)對2009年9月30日及其之前設(shè)立的外資研發(fā)中心，應(yīng)同時滿足下列條件：
1．研發(fā)費用標準：(1)對新設(shè)立不足兩年的外資研發(fā)中心，作為獨立法人的，其投資總額不低于500萬美元；作為公司內(nèi)設(shè)部門或分公司的，其研發(fā)總投入不低于500萬美元；(2)對設(shè)立兩年及以上的外資研發(fā)中心，企業(yè)研發(fā)經(jīng)費年支出額不低于l000萬元。
2．專職研究與試驗發(fā)展人員不低于90人。
3．設(shè)立以來累計購置的設(shè)備原值不低于1000萬元。
(二)對2009年10月1日及其之后設(shè)立的外資研發(fā)中心，應(yīng)同時滿足下列條件：
1．研發(fā)費用標準：作為獨立法人的，其投資總額不低于800萬美元；作為公司內(nèi)設(shè)部門或分公司的，其研發(fā)總投入不低于800萬美元。
2．專職研究與試驗發(fā)展人員不低于150人。
3．設(shè)立以來累計購置的設(shè)備原值不低于2000萬元。
具體審核辦法由商務(wù)部會同財政部、海關(guān)總署、國家稅務(wù)總局另行制定。
二、適用采購國產(chǎn)設(shè)備全額退還增值稅政策的內(nèi)外資研發(fā)機構(gòu)包括：
(一)《科技開發(fā)用品免征進口稅收暫行規(guī)定》(財政部、海關(guān)總署、國家稅務(wù)總局令第44號)規(guī)定的科學研究、技術(shù)開發(fā)機構(gòu)。
(二)《科學研究和教學用品免征進口稅收規(guī)定》(財政部、海關(guān)總署、國家稅務(wù)總局令第45號)規(guī)定的科學研究機構(gòu)和學校。
(三)符合本通知第一條規(guī)定條件的外資研發(fā)中心。
具體退稅管理辦法由國家稅務(wù)總局會同財政部另行制定。
三、本通知所述設(shè)備，是指本通知附件所列的為科學研究、教學和科技開發(fā)提供必要條件的實驗設(shè)備、裝置和器械�！�
四、本通知執(zhí)行期限為2009年7月1日至2010年12月31日。
附件：科技開發(fā)、科學研究和教學設(shè)備清單
財政部海關(guān)總署國家稅務(wù)總局
二00九年十月十日
附件：
科技開發(fā)、科學研究和教學設(shè)備清單
為科學研究、教學和科技開發(fā)提供必要條件的實驗設(shè)備、裝置和器械(不包括中試設(shè)備)，具體包括以下三類：
一、實驗環(huán)境方面
(一)教學實驗儀器及裝置；
(二)教學示教、演示儀器及裝置；
(三)超凈設(shè)備(如換氣、滅菌、純水、凈化設(shè)備等)；
(四)特殊實驗環(huán)境設(shè)備(如超低溫、超高溫、高壓、低壓、強腐蝕設(shè)備等)；
(五)特殊電源、光源(如電極、開關(guān)、線圈、各種光源等)；
(六)清洗循環(huán)設(shè)備；
(七)恒溫設(shè)備(如水浴、恒溫箱、滅菌儀等)；
(八)小型粉碎、研磨制備設(shè)備。
二、樣品制備設(shè)備和裝置
(一)特種泵類(如分子泵、離子泵、真空泵、蠕動泵、蝸輪泵、干泵等)；
(二)培養(yǎng)設(shè)備(如培養(yǎng)箱、發(fā)酵罐等)；
(三)微量取樣設(shè)備(如移液管、取樣器、精密天平等)；
(四)分離、純化、濃縮設(shè)備(如離心機、層析、色譜、萃取、結(jié)晶設(shè)備、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器等)；
(五)氣體、液體、固體混合設(shè)備(如旋渦混合器等)；
(六)制氣設(shè)備、氣體壓縮設(shè)備；
(七)專用制樣設(shè)備(如切片機、壓片機、鍍膜機、減薄儀、拋光機等)，實驗用注射、擠出、造粒、膜壓設(shè)備；實驗室樣品前處理設(shè)備；
(八)實驗室專用小器具(如分配器、量具、循環(huán)器、清洗器、工具等)。
三、實驗室專用設(shè)備
(一)特殊照相和攝影設(shè)備(如水下、高空、高溫、低溫等)；
(二)科研飛機、船舶用關(guān)鍵設(shè)備和部件；
(三)特種數(shù)據(jù)記錄設(shè)備及材料(如大幅面掃描儀、大幅面繪圖儀、磁帶機、光盤機等)；
(四)特殊電子部件(如電路板、特種晶體管、專用集成電路等)；
(五)材料科學專用設(shè)備(如干膠儀、特種坩堝、陶瓷、圖形轉(zhuǎn)換設(shè)備、制版用干板、特種等離子體源、離子源、外延爐、擴散爐、濺射儀、離子刻蝕機，材料實驗機等)，可靠性試驗設(shè)備，微電子加工設(shè)備，通信模擬仿真設(shè)備，通信環(huán)境試驗設(shè)備；
(六)小型熔煉設(shè)備(如真空、粉末、電渣等)，特殊焊接設(shè)備；
(七)小型染整、紡絲試驗專用設(shè)備；
(八)電生理設(shè)備。
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